Nitrure de gallium

Nitrure de gallium
Image illustrative de l’article Nitrure de gallium
Image illustrative de l’article Nitrure de gallium
__ Ga3+       __ N3-
Structure cristalline wurtzite du nitrure de gallium. En haut : monocristal d'environ 3 mm de long.
Identification
Nom UICPA azanylidynegallane
Nom systématique nitrure de gallium(III)
No CAS 25617-97-4
No ECHA 100.042.830
No CE 247-129-0
PubChem 117559
SMILES
InChI
Apparence poudre gris clair[1]
Propriétés chimiques
Formule GaN  [Isomères]
Masse molaire[2] 83,73 ± 0,001 g/mol
Ga 83,27 %, N 16,73 %,
Propriétés physiques
fusion > 1 600 °C[3],[4]
Solubilité insoluble dans l'eau[5]
Masse volumique 6,1 g/cm3[3] à 20 °C
Thermochimie
ΔfH0solide −110,2 kJ/mol[6]
Propriétés électroniques
Largeur de bande interdite 3,4 eV[7] à 300 K
Mobilité électronique 1 500 cm2/V/s[8] à 300 K
Mobilité des trous 30 cm2/V/s[9] à 300 K
Cristallographie
Système cristallin hexagonal[10]
Symbole de Pearson hP4
Classe cristalline ou groupe d’espace P63mc (no 186) [10]
Notation Schönflies C4
6v
Structure type wurtzite
Paramètres de maille a = 318,6 pm, c = 518,6 pm[11]
Précautions
SGH[12]
SGH07 : Toxique, irritant, sensibilisant, narcotique
Attention
H317, P280, P302+P352 et P333+P313
NFPA 704[12]

Symbole NFPA 704.

 
Composés apparentés
Autres cations Nitrure de bore
Nitrure d'aluminium
Nitrure d'indium
Autres anions Phosphure de gallium
Arséniure de gallium
Antimoniure de gallium

Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire.

Le nitrure de gallium est un semiconducteur III-V à gap direct de 3,4 eV à 300 K. De formule chimique GaN, c'est un matériau très dur de structure cristalline de type wurtzite (système hexagonal P63mc, no 186[10]) avec pour paramètres a = 318,6 pm et c = 518,6 pm[11]. Il cristallise également dans le système cubique avec la structure blende (polymorphe β-GaN) selon le groupe d'espace F43m (no 216)[13]. Il s'agit d'un semiconducteur à large bande interdite couramment utilisé pour la fabrication de diodes électroluminescentes (LED) bleues et dont les propriétés électroniques et optiques permettent le développement d'applications optoélectroniques, hautes fréquences et d'électronique de puissance[14],[15]. Le GaN est ainsi le matériau permettant de produire des diodes laser violettes (longueur d'onde de 405 nm) sans devoir recourir à un doublage de fréquence non linéaire. Il est également étudié dans le cadre du développement de la technologie 5G[16].

Le nitrure de gallium est peu sensible aux rayonnements ionisants, comme généralement les autres nitrures du groupe III, ce qui en fait un bon matériau semiconducteur pour les cellules photovoltaïques alimentant les satellites. D'une manière générale, les applications militaires et spatiales durcies contre les radiations peuvent bénéficier de cette propriété[17]. Les transistors en nitrure de gallium peuvent fonctionner à des températures et sous des tensions bien plus élevées que celles des transistors en arséniure de gallium (GaAs), ce qui les rend performants en amplification de puissance dans le domaine des microondes. Le GaN est également prometteur dans le domaine térahertz[18]. On retrouve le GaN comme constituant d'alliages pour MODFET (HEMT), pour certains JFET ainsi que pour diverses photodiodes.

  1. Fiche Sigma-Aldrich du composé Gallium nitride, consultée le 6 janvier 2023.
    FDS : (en) « Gallium nitride » [PDF], sur sigmaaldrich.com, Sigma-Aldrich, (consulté le )
  2. Masse molaire calculée d’après « Atomic weights of the elements 2007 », sur www.chem.qmul.ac.uk.
  3. a et b (en) William M. Haynes, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 92e éd., CRC Press, 2011, p. 4.64. (ISBN 1-4398-5511-0)
  4. (en) Kenji Harafuji, « Molecular dynamics simulation for evaluating melting point of wurtzite-type GaN crystal », Journal of Applied Physics, vol. 96, no 6,‎ , p. 2501-2512 (DOI 10.1063/1.1772878, Bibcode 2004JAP....96.2501H, lire en ligne).
  5. (en) Corey M. Foster, Ramon Collazo, Zlatko Sitar et Albena Ivanisevic, « Aqueous Stability of Ga- and N-Polar Gallium Nitride », Langmuir, vol. 29, no 1,‎ , p. 216-220 (PMID 23227805, DOI 10.1021/la304039n, lire en ligne).
  6. (en) William M. Haynes, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 92e éd., CRC Press, 2011, p. 5.12. (ISBN 1-4398-5511-0)
  7. (en) Ben G. Streetman et Sanjay Banerjee, Solid State electronic Devices, 5e  éd., Prentice Hall, 2000, p. 524. (ISBN 0-13-025538-6)
  8. (en) Johan Strydom, Michael de Rooij, David Reusch et Alex Lidow, GaN Transistors for efficient power conversion, 3e  éd., Wiley, 2019, p. 3. (ISBN 978-1-119-59442-0)
  9. (en) E. Fred Schubert, « Room temperature properties of Si, Ge, GaAs, and GaN » [PDF], sur sites.ecse.rpi.edu, Institut polytechnique Rensselaer (consulté le ).
  10. a b et c (en) « GaN », sur materialsproject.org (DOI 10.17188/1268467, consulté le ).
  11. a et b (en) V. Bougrov, M. Levinshtein, S. Rumyantsev et A. Zubrilov, « Gallium Nitride (GaN) », Michael E. Levinshtein, Sergey L. Rumyantsev et Michael S. Shur, Properties of Advanced Semiconductor Materials: GaN, AIN, InN, BN, SiC, SiGe, John Wiley & Sons, 2001, p. 1-30. (ISBN 978-0471358275)
  12. a et b « Fiche du composé Gallium(III) nitride, 99.99% (metals basis)  », sur Alfa Aesar (consulté le ).
  13. (en) Sadao Adachi, « Cubic Gallium Nitride (β-GaN) », Optical Constants of Crystalline and Amorphous Semiconductors,‎ , p. 188-197 (DOI 10.1007/978-1-4615-5247-5_20, lire en ligne).
  14. (en) A. Di Carlo, « Tuning Optical Properties of GaN-Based Nanostructures by Charge Screening », physica status solidi (a), vol. 183, no 1,‎ , p. 81-85 (DOI 10.1002/1521-396X(200101)183:1<81::AID-PSSA81>3.0.CO;2-N, Bibcode 2001PSSAR.183...81D, lire en ligne).
  15. (en) Y. Arakawa, « Progress in GaN-based quantum dots for optoelectronics applications », IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics, vol. 8, no 4,‎ , p. 823-832 (DOI 10.1109/JSTQE.2002.801675, Bibcode 2002IJSTQ...8..823A, lire en ligne).
  16. (en) Kun Wang et Chenxu Sheng, « Application of GaN in 5G Technology », Journal of Physics: Conference Series, vol. 1699, no 1,‎ , article no 012004 (DOI 10.1088/1742-6596/1699/1/012004, Bibcode 2020JPhCS1699a2004W, lire en ligne Accès libre).
  17. (en) Alexander Lidow, J. Brandon Witcher et Ken Smalley, « Enhancement Mode Gallium Nitride (eGaN™) FET Characteristics under Long Term Stress » [PDF], Conférence GOMAC Tech, sur epc-co.com, Efficient Power Conversion Corporation, (consulté le ).
  18. (en) Kiarash Ahi, « Review of GaN-based devices for terahertz operation », Optical Engineering, vol. 56, no 9,‎ , article no 090901 (DOI 10.1117/1.OE.56.9.090901, Bibcode 2017OptEn..56i0901A, lire en ligne).

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